【Kindle本】 半導体プロセス イオン注入・熱処理

出版したKindle本を紹介します。

半導体プロセスのイオン注入と熱処理編です。

他にも半導体プロセスの本を出版していますが、

半導体プロセスには学ぶ順番というのが存在しないため、

こちらの本から読んでも理解には問題無しです。

半導体プロセス自体、馴染みの無い工程が多いですが、

イオン注入に関しては関わる分野が簡単には思いつかないほど

半導体プロセスに特化しているような分野になっています。

そのため、非常に難易度が高く感じる工程です。

ただし、内容としては

拡散の式

統計の知識

イオンに関する知識

質量分離の知識

電圧（電界）に関する知識

結晶に関する知識

の集合であり、

何から構成されているのかと、その構成要素の基礎が分かれば

理解できます。

本書では、その構成要素を１つ１つ基礎から説明しました。

特に前提知識がなくとも詳細まで把握できるようになっております。

熱処理に関してはプロセスとしては単純ですが

半導体プロセスでの熱処理工程が数多く

それぞれ何の目的で熱処理を行っているのかが複雑に感じやすいです。

本書では、熱処理の目的と、そのための熱処理の方法の特徴を書きました。

熱処理に関して目的に応じた特徴が理解できると思います。

なお、イオン注入、熱処理それぞれに関して

SiCは全くSiと異なるプロセス条件になるため

その項目も記載しました。

半導体プロセスはいきなり専門書から読んでもわからず

ただし、基礎となる本もほぼ無いので

本書を読んでいただければ幸いです。

Amazonのレビューいただきましてありがとうございました。励みになります。

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気軽に読んでみてください。

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↓ 以下概要分

半導体プロセスの基礎から書きました。

内容は以下３点です。
・半導体プロセスのイオン注入工程
・熱拡散工程による不純物導入
・熱処理工程
SiのみならずSiCの場合も含めて記載しています。

対象としては以下の人たちです。
・半導体という分野に初めて関わり始めた人
・部分的、関連分野を知っている人、
例えば、半導体後段工程は知っているが前段工程のことは全く知らない人や
電子部品の製造工程は知っているが半導体プロセスのことは知らない人
・半導体工場の現場で働いており、今行っている作業が何のための作業か知りたい人

専門的な内容のみならず、原理部分も高校基礎レベルから
分かりやすい説明を心掛けました。
「正直、本屋に行って専門書を見ても全く分からないよ」という状態から、
半導体プロセスとは何か、
何が重要なポイントか、
を説明できるレベルになれるまでを目指して書きました。

私自身、半導体・電子部品分野に長年従事してきました。
新入社員や異動してきた方に対して、原理的なことを毎週教えており
大変分かりやすい説明と好評でした。
色々な専門書に手を出す前にまず、本書を読んでいただきたいです。

内容としては
不純物導入方法はいくつあるのか？
イオン注入方法とは？
熱拡散方法とは？
拡散の速さは何のパラメータによって決まるのか？
拡散で出てくる正規分布の解釈とは？
熱拡散とイオン注入の正規分布の相違は？
熱拡散の装置構造はどのようになっているのか？
イオン注入の装置構造はどのようになっているのか？
イオン注入ではどのようにイオンを発生させているのか？
イオン注入ではどのように質量分離をしているのか？
イオン注入ではどのようにイオンを加速させているのか？
イオン注入のスキャン方法とは？
イオン注入でウェハを傾けるのはなぜ？
イオン注入でウェハを傾けられない時があるのはなぜ？
イオン注入時のレジスト厚で気を付けるべきことは？
イオン注入によって電荷が帯びた場合の対処方法とは？
熱拡散、イオン注入しやすい物質は何か？
エピ成長とは？
プラズマドーピング法とは？
SiCの場合、熱拡散法は使用できるのか？
SiCの場合、イオン注入法は使用できるのか？
アニールとは？
イオン注入後のアニールとは？
リフロー、シンタリングとは？アニールと何が違う？
炉の装置構造はどのようになっているのか？
RTAとは？
レーザーアニールとは？
酸化膜を加熱によって形成する理由は？
酸化膜の形成速度が単調増加では無いのはなぜ？
SiCの場合、アニール条件はどのように変わるのか？