【Kindle本】半導体プロセスの基礎からわかりやすく丁寧に　成膜工程

出版したKindle本を紹介します。

内容は半導体プロセス　成膜工程です。

成膜工程は他の工程に比べて、化学の知識が特に必要な工程のため、

物理を専門にしていた方にとっては取っつき難い内容だと思います。

また、化学の知識があって成膜する方法が理解出来たとしても

一体どういう考え方でその膜を成膜したのか

その点も初学者には難しいと思います。

そのため、化学的な知見と成膜する材料という半導体側の知見を

まとめて本書にしました。

ご参考に見ていただけたら幸いです。

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気軽に読んでみてください。

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↓ 以下概要分

半導体プロセスの基礎から書きました。
内容は半導体プロセスの成膜工程です。
SiのみならずSiCの場合も含めて記載しています。

対象としては以下の人たちです。
・半導体という分野に初めて関わり始めた人
・部分的、関連分野を知っている人、
　例えば、半導体後段工程は知っているが前段工程のことは全く知らない人や
　電子部品の製造工程は知っているが半導体プロセスのことは知らない人
・半導体工場の現場で働いており、今行っている作業が何のための作業か知りたい人

分かりやすく、原理部分に対しても高校レベルの基礎から説明を試みました。
「正直、本屋に行って専門書を見ても全く分からないよ」という状態から、
半導体プロセスとは何か、
何が重要なポイントか、
を説明できるレベルになれるまでを目指して書きました。

私自身、半導体・電子部品分野に長年従事してきました。
新入社員や異動してきた方に対して、原理的なことを毎週教えており
大変分かりやすい説明と好評でした。
色々な専門書に手を出す前にまず、本書を読んでいただきたいです。

内容としては
成膜とは？
なぜ成膜するのか？
塗布法とは？
液相成長法とは？
めっきで重要な原理は？
プラズマとは？
PVDとは？
スパッタリング法とは？
スパッタで磁石を用いる理由は？
反応性スパッタリング法とは？
均一にスパッタ成膜するには？
蒸着法はなぜ使われないのか？
ショットキー接合、オーミット接合とは？
結局金属膜は何を成膜すれば良いのか？
CVDとは？
CVDで成膜出来るのはなぜ？
複数種類のCVD法があるのはなぜ？
なぜCVDでプラズマを用いる場合があるのか？
酸化膜の成膜方法は？膜の役割は？
窒化膜の成膜方法は？膜の役割は？
BPSGの成膜方法は？膜の役割は？
high kとは？膜の役割は？
エピ成長とは？膜の役割は？
Poly Siの形成方法は？膜の役割は?
成膜と温度の関係は？
CVDとPVDの違いは？
成膜の出来映え評価方法は？
成膜装置選定時の注意点は？
SiCの場合、成膜条件はどのように変わるのか？